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Konferenz

Technische Sauberkeit in der Industrie

Die Industrial Contamination & Cleanliness Control am 21. & 22. März 2012 in Düsseldorf  befasst sich branchenübergreifen mit den prozessualen und entwicklungstechnischen Anforderungen an die technische Sauberkeit und Reinheit in der Industrie. Dabei werden Ist- und Soll-Zustandmarcusevans in der Produkt- und Prozessgestaltung, Mess- und Analysetechnik, Werkstoffanalyse, als auch Produktions- und Montagebedingen thematisiert. Technische Sauberkeit wird dabei in septische und partikuläre unterteilt, und bezieht sich sowohl auf die Reinraumtechnologie, als auch die Prävention von gröberer Partikelverschmutzung, die die Funktionalität und Qualität von Bauteilen und Systemen beeinflussen kann.
Die Konferenz ermöglicht damit einen Rundumblick auf die Herausforderungen und Entwicklungen, die die zukunftsorientierte, technische Entwicklung in der Industrie an die technische Sauberkeit bei den OEMs und deren Zulieferer stellt.
Profitieren Sie von folgenden und weiteren Themenschwerpunkten:

  • Globaler Stellenwert der technischen Sauberkeit in produzierenden Unternehmen
  • Sauberkeitsorientierte Prozessgestaltung in der produzierenden Industrie
  • Möglichkeiten und Grenzen mikroskopischer Verfahren in der Partikelanalyse
  • Standards und Richtlinien für die sauberkeitsorientierte Produktions- und Montagegestaltung
  • Partikuläre und mikrobiologische Reinheit: Voraussetzungen für Technologien von morgen
  • Nutzung und Instandhaltung von Reinraumtechnologien und -anlagen
  • Restschmutzanalyse – Qualitätssicherung, Monitoring und Prüfung
  • Fertigung mechanisch-opto-elektronischer Systeme unter Reinraumbedingungen

Fachbeiträge kommen unter anderem von: AEG Elektrofotografie GmbH, Boehringer Ingelheim Pharma
GmbH & Co. KG, Carl Zeiss MicroImaging GmbH, Continental AG, Robert Bosch GmbH Diesel
Systems.

Nähere Informationen finden Sie unter www.marcusevansde.com/ts_IH